合肥科晶等离子射频磁控溅射仪VTC-5RF

设备名称

5靶头等离子射频磁控溅射仪--VTC-5RF

主要特点

l多种溅射靶头及电源可选，自由组合，具体请致电我公司销售部。 

l根据所使用的电源（DC或RF），可以沉积金属或非金属材料。 

l一个旋转开关可以依次激活溅射头，可在真空或等离子体环境中自动切换，不影响真空度。 

l可以安装五种不同材料的靶材，每个靶头可单独设置溅射时间功率等参数，用于生长不同成分的薄膜。 

l可选购多个射频电源，同一时间溅射多个靶材。 

l可选配设备控制软件，用电脑控制溅射的所有参数。

溅射腔体

l真空腔体采用304不锈钢制作 

l腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H  (105 L) 

l铰链式腔门，直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口

溅射头&样品台

l5个1英寸的磁控溅射头，带有水冷夹层（图一） 

l溅射腔体内安装有电动挡板 

l溅射距离: 50–80 mm 

l溅射角度: 0–25°（可调） 

l实验时，需要将靶材和靶材的铜垫片用导电银浆粘合粘合，（可在本公司购买导电银浆） 

l可以单独订购RF连接线作为备用（图二） 

l设备需要一台水冷机，用于靶头冷却（图三） 

l原理图请参考（图四）

图一	图二	图三

图四

样品台

l直径为150mm的样品台，上面覆盖一旋转台，带有10mm的孔洞，每次露出一个样品接收溅射成膜。 

l样品台尺寸：Φ150mm,可通过程序控制来旋转，可制作16种不同组分的薄膜 

l样品台可以加热，最高温度可达600℃（根据配置不同可能会有变动）

真空系统
 

l安装有KF40真空接口 

l真空度：4.0e-5Torr(分子泵） 

l可在本公司选购各种真空泵

进气

l设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶 

l设备前面板上装有一气流调节旋钮，方便调节气流

靶材

l所要求靶材尺寸：直径为25mm,最大厚度3mm 

l可在本公司选购各种靶材

薄膜测厚仪（可选）

可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上

净重

60Kg（不包括泵）

质量认证

CE认证

质保

一年保修，终身技术支持。
特别提示：1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内。

2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。

使用提示

l此设备为DIY设备，参数变化较大购买前请务必电话仔细沟通 

l为了得到较好的薄膜质量，必须通入高纯气体（建议> 5N） 

l在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净 

l要达到薄膜与基底良好结合，请在溅射前清洁基材表面 

l超声波清洗：（1）丙酮超声（2）异丙醇超声-去除油脂（3）吹氮气干燥（4）真空烘箱除去水分。 

l等离子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化学键，可祛除额外的污染物。 

l制造一个薄的缓冲层（5纳米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以应用于改善金属和合金的附着力。

超声波清洗机	等离子清洗机	蒸镀仪	手套箱

警告

l注意：产品内部安装有高压元件，禁止私自拆装，带电移动机体。 

l气瓶上应安装减压阀（设备标配不包括），保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。 

l溅射头连接到高电压。为了安全，操作者必须在关闭设备前装样和更换靶