三靶射频磁控溅射镀膜仪VTC-3RF合肥科晶产品简介:
VTC-3RF三靶射频磁控溅射镀膜仪,配有磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。
三靶射频磁控溅射镀膜仪VTC-3RF合肥科晶产品技术参数:
设备名称
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三靶射频磁控溅射镀膜仪--VTC-3RF
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产品提示
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1、多种配件可选提示 2、特殊设备尺寸设备 3、科晶实验室邀请提示 4、配件妥善保管提示
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主要特点
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·标配的石英腔体(也可选配金属腔体)方便观察(图1)
·相比传统溅射仪,体积小巧,拆装方便(图2)
·模块化设计,靶头,电源等多种可选,自由DIY(图3)
·基台可旋转可加热
·可溅射金属和氧化物。实验室已初步制备了 氧化锌、碲化铋、ITO、ATO、AU、Ag、Cu、Al、Mg、Sc等薄膜。
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基本参数
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1、输入电源:220V AC50/60Hz
2、设备功率:<1500W
3、靶台加热温度:500℃
4、样品台转速:0-10r/min
5、靶头可调倾角:0-25度
6、溅射腔体尺寸:278mm OD x 272mm ID x310mm H。
7、靶材尺寸要求:1英寸磁控溅射靶头Φ25.4mm ×(0.1-3)mm(厚度) 2英寸磁控溅射靶头Φ50mm ×(0.1-3)mm(厚度)
8、最高使用功率:1英寸磁控溅射靶头100W 2英寸磁控溅射靶头300W
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机体结构
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·设备配备三个直流射频通用靶头,1英寸2英寸尺寸可选。
·仪器中安装有直径为50mm的不锈钢可旋转样品台,最高加热温度是500℃(图1)
·配有300W自动匹配射频电源和500W的直流溅射电源(可自由选择)(图2)
·设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶(图3)
·配有靶头电动升降台(图4)
·配有高纯石英密封罩(图5)
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配置可选
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2英寸高真空加热台
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膜厚监测仪
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供气系统
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高真空系统
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反射光谱薄膜测厚仪
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水冷机
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真空干燥箱
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冷阱
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靶材
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晶体衬底材料
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超声波清洗机
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等离子清洗机
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产品外形尺寸
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·700mm L x 770 mm W x 1900 mm H
·净重:80 kg(不包括泵)
备注:此产品尺寸为参考值,可能存在一定的误差。如果您对尺寸有精确的要求,请在购买前和我公司联系确认,以免给您造成不便。
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实验室参考案例
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以下数据仅针对合肥科晶设备,不具有普遍性。
溅射氧化锌薄膜
基底采用:蓝宝石(0001)基片(5*5*1mm3);
靶材采用:Φ1”×2.5mm高纯ZnO陶瓷靶
XRD薄膜高分辨图
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溅射ITO薄膜
基底采用:Si(0001)基片(5*5*1mm3);
靶材采用:Φ2”×2.5mm高纯ITO靶
EDS元素成分分析图
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溅射Mg薄膜
基底采用:Si(0001)基片(5*5*1mm3);
靶材采用:Φ2”×2.5mm高纯Mg靶
EDS元素成分分析图
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溅射Sc薄膜
基底采用:Si(0001)基片(5*5*1mm3);
靶材采用:Φ2”×2.5mm高纯Sc靶
EDS元素成分分析图
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实验案例照片
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氧化锌 |
ATO |
ITO |
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镁 |
碲化铋 |
铂 |
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金 |
银 |
铜 |
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铝 |
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相关视频
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操作视频 |
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应用技术提示
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1、为了保证溅射效果,非导电靶材必须安装铜垫块
2、有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膜
3、为了得到较好的薄膜质量,必须通入高纯气体(建议> 5N)
4、在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净
5、要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面
6、在分子泵出口安装有一个可手动操作的挡板
超声波清洗:(1)丙酮超声(2)异丙醇超声-去除油脂(3)吹氮气干燥(4)真空烘箱除去水分。
等离子清洗:可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。
制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。
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警
示
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注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。
1、1英寸靶头最大使用功率为100W
2、2英寸靶头最大使用功率为300W
3、气瓶上应安装减压阀(设备不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
4、溅射头连接到高电压。为了安全,操作者必须在关闭设备后才能进行装样和更换靶头等操作。
5、请勿在易燃易爆气体环境下使用该设备
6、请勿在潮湿的环境下使用该设备
7、机体上禁止放置茶杯等装有液体的器物
8、禁止仪器通电状态下去拔插电源插头
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质量认证 |
CE认证
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质保
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一年保修,终身技术支持。
特别提示:
1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。
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