2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪VTC-2RF合肥科晶产品简介:
VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。
2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪VTC-2RF合肥科晶产品技术参数:
我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜
设备名称 |
2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪-VTC-2RF |
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视频 |
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主要参数 |
输入电源:220V AC 50/60Hz 整机功率:800W(包括真空泵) 射频电源最高使用功率:300W 靶头数量:单个2英寸磁控溅射靶头 样品台加热温度:500℃
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射频电源 |
该设备有两种射频电源可选分别为:(图一、二) l300W自动匹配射频电源 l100W的手动匹配射频电源
注意: l2英寸靶头最大使用功率为300W l自动射频电源的最大功率为300W,但是受靶头限制,最大功率只能使用100W l自动匹配电源价格相对贵,但是操作非常方便,无需手动调节,可以节约时间
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溅射腔体 |
l采用石英腔体,尺寸:166 mm OD×150 mm ID×250 mm H l密封法兰:直径为165 mm,采用金属制作,密封采用O形密封圈
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溅射头&样品台 |
l一个2英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接 l仪器中安装有直径为50mm的不锈钢可旋转样品台,其与溅射头之间距离30-80mm可调 l样品台可加热,加热温度室温-500℃ l安装有一可手动操作的挡板 l最大可制膜的直径为:4英寸
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真空系统 |
l安装有KF25真空接口 l数字真空压力表(Pa) l此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含) l< 1.0E-2 Torr(采用机械泵)(参考值) l< 1.0E-5 Torr(采用涡旋分子泵)(参考值) l可在本公司选购各种真空泵
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进气 |
l设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶 l设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流
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靶材 |
l靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1-3) mm(厚度) l可在本公司选购各种靶材
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薄膜测厚仪(可选) |
可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上
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产品外型尺寸
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540 mm L×540 mm W×1100 mm H
净重:70 kg(不包括泵) |
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质量认证 |
CE认证 |
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质保 |
一年保修,终身技术支持。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。
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使用提示
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l此设备有多种DIY方案可供选择,具体请联系销售部 l为了保证溅射效果,非导电靶材必须安装铜垫块 l可在本公司购买单晶基片从A到Z
l本公司溅射镀膜机在500℃已经成功将ZnO溅射在Al2O3衬底上(点击下图查看XRD图谱)
l有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膜 l为了得到较好的薄膜质量,必须通入高纯气体(建议> 5N) l在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净 l要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面 l超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声(2)异丙醇超声-去除油脂(3)吹氮气干燥(4)真空烘箱除去水分。 l等离子清洗:可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。 l制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。
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