合肥科晶等离子溅射仪VTC-16-D

设备名称

小型直流磁控溅射仪-VTC-16-D

特点

l特别为SEM样品镀导电性薄膜设计 

l体积小巧，操作简单，容易上手。 

l拥有小型磁控靶头，可以镀金银铂等金属。

主要参数

输入电源：220V AC 50/60Hz  

功率：200W 

输出电压：500 VDC    

溅射电流：0-50 mA可调 

溅射时间：0-120S可调

溅射腔体

l采用石英腔体，尺寸：166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H 

l密封：采用不锈钢平法兰的O形密封圈

溅射头&样品台

l溅射头可安装靶材直径为2英寸，厚度0.1 - 2.5mm 

l溅射时间1-120S可调

l仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台，其与溅射头之间距离30-80mm可调。 

l可选购加热型样品台，其最高加热温度为500℃ 

l安装有一可手动操作的溅射挡板，可进行预溅射。 

l最大可制膜的直径为:4英寸

真空系统
 

l安装有KF25真空接口 

l数字真空压力表（Pa） 

l此系统可通入气体运行 

l< 1.0E-2 Torr （采用机械泵） 

l< 1.0E-5 Torr（采用涡旋分子泵） 

l可在本公司选购各种真空泵

进气

l设备上配1/4英寸进气口，方便连接气瓶 

l设备前面板上装有一气流调节旋钮，方便调节气流

靶材

l靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度) 

l此设备标配为铜靶 

l可在本公司选购各种靶材

薄膜测厚仪（可选）

可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上

产品外型尺寸

L460 mm × W 330 mm × H 540 mm

净重：20 kg（不包括泵）

质量认证

CE认证

 质保

一年保修，终身技术支持。
特别提示：1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内。

2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。

各种靶材的参数（仅供参考）

对于溅射各种金属靶材，需要摸索最理想的溅射参数，下表是本公司实验所设置的参数，欢迎您带料来科晶实验室摸索工艺（仅供参考）

使用提示

l有时为了达到理想的薄膜厚度，可能需要多次溅射镀膜 

l在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净 

l要达到薄膜与基底良好结合，请在溅射前清洁基材表面 

l超声波清洗（详细参数点击下面图片）：（1）丙酮超声，（2）异丙醇超声-去除油脂，（3）吹氮气干燥，（4）真空烘箱除去水分。 

l等离子清洗（详细参数点击下面图片）：可表面粗糙化，可激活表面化学键，可祛除额外的污染物。

l制造一个薄的缓冲层（5纳米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以应用于改善金属和合金的附着力。 

l请使用>5N纯度氩气等离子体溅射

 l溅射镀膜机可以放入Ar或N2气体手套箱中溅射 

l由于能量低，该模型不适用于涂层的轻金属材料如Al，Mg，Zn，Ni。请考虑我们的磁控溅射镀膜机或热蒸发镀膜机。点击下面图片查看细节

超声波清洗机	等离子清洗机	大功率磁控溅射仪	蒸发镀膜仪

警告

l注意：产品内部安装有高压元件，禁止私自拆装，带电移动机体。 

l气瓶上应安装减压阀（不包括），保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。

l溅射头连接到高电压。为了安全，操作者必须在关闭设备前装样和更换靶头。