合肥科晶程序控温型四坩埚蒸发镀膜仪GSL-1700X-EV4

产品结构

• 石英真空腔体：280mm OD×260mm ID×310mm H，易清洗和放入样品 

• 安装有一个2英寸的样品台，并且样品台可以旋转，使所制薄膜达到更好的均匀性 

• 采用钨丝篮作为发热源，最高温度可达到1700℃，并且配用专用氧化铝舟，可装入样品（仅1600℃以下使用，若蒸发温度大于1600℃，样品应直接放在钨丝篮中）

• 精确控温：可设置30段升降温程序，控温精度为+/-1℃ 

• 真空度：10-5Torr(如采用分子泵系统) 

• 进气系统可实现腔体的清洗和反应蒸发镀膜

工作电源

• 电压：AC220V，50/60Hz，单相 

• 功率：1200W，最大电流为30A

温控及加热源

• 4蒸发坩埚，每个容积为3mL。四坩埚可依次进行蒸发，实现多层膜沉积工艺（不能同时蒸发） 

• 采用钨丝篮作为发热源，并且配有专用的氧化铝坩埚，热电偶安装在坩埚底部，以便于温度测量和控制（如图1） 

• 标准采用S型热偶：工作温度为200℃-1500℃（图2） 

• 可选B型热电偶：工作温度为1200℃-1700℃ 

• 安装有一个数显的温度控制器：可设置30段升降温程序，控温精度为+/- 1ºC（如图3） 

• 也可将仪器转换到手动调节接状态，内部不安装热电偶，直接采用手动调节输出电流大小，发热源温度可高达2000℃，可实现对样品镀碳等实验（图4） 

• 仪器中配备4个蒸发坩埚，每个坩埚均配有2个钨丝蓝加热元件

                    图1                                    图2                                              图3                                            图4                                    图5

样品台

• 仪器顶部安装有样品台，直径为Φ50mm 

• 样品台可旋转，转速为：5rpm 

• 样品台和蒸发源之间的距离可以调节，调节范围为：40mm-85mm 

样品厚度监测（可选）

• 腔室内可安装精密的薄膜测厚仪，可点击图1&图2查看详情。测厚精度可达0.10 Å。测厚仪LED显示可实现： 

根据数据库，输入涂层信息

显示镀膜总厚度以及镀膜速度 

• 可选购反射光谱薄膜测厚仪--TFMS-LD，用于薄膜厚度的检测，点击图3查看详情

            图1                               图2                                             图3

真空系统（选配）

• 设备上有一KF25接口用于连接真空泵 

• 最高真空度可达4.0E-6 Torr（采用涡旋分子泵） 

• 双极旋片真空泵或干泵，可使仪器真空腔体的真空度达到10-2Torr 

• 真空度达到10^-2torr时，可蒸发一些贵金属，如金和铂，也可蒸发一些有机材料，可选购数显防腐真空计PCG-554(测量范围3.8x10^-5 to 1125 Torr.) 

• 高真空度可达4.0E-6 Torr（采用涡旋分子泵），此时可蒸发对氧敏感的材料，如Al. Mg, Li，分子泵上带有复合真空计（最高可测量真空度为1.0E-7Torr） 

• 可在本公司选购各种真空泵和真空计

进气口

• 进气接口为1/4NPS，可向真空腔体中通入惰性气体，对腔体进行清洗，也可通入反应气体，进行反应蒸发镀膜 

• 进气口安装有一针阀，用于调节进气流量

耗材

• 注：氧化铝坩埚以及钨丝蓝为耗材，可与本公司销售联系购买  

产品尺寸

• 总体尺寸：550mm L×550mm W×750mm H

• 石英腔体尺寸：280mm OD×260mm ID×310mm H

质量认证

• CE认证

质保期

• 一年保质期，终生维护

产品质量

• 80kg

应用注意事项

• 为了获得高真空度，可采用以下做法
（1）使用前要检查密封圈和法兰上是否有异物或划痕，并用酒精擦洗
（2）抽真空时，用外部加热装置将腔体烘烤到200℃，氧化铝坩埚预加热到500℃，保持2小时 

• 使用温度高于1300℃时，保温时间不可大于1小时，否则会损坏密封圈 

• 当腔体的各阀门关闭时，请勿开启升温程序或手动调节电流进行加热 

• 当仪器正在蒸发材料时，不可打开泄气阀或关闭真空泵，只有当加热温度降至100℃时，才可放气或关闭真空泵